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我只想摆烂,可他们叫我天才 第854章 遇见问题不要怕,一个一个解决它!(第1页/共2页)


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    小才:“然后在门口磨蹭十分钟再进院子,有什么区别?”

    陈望:“什么叫磨蹭,那是对景观的欣赏,你不是说我没有情调吗?我现在就是在培养我的情调。

    而且我提前十分钟到这儿区别可大了,要是弄个打卡的机器在外面,我是不是每天都能提前十分钟打卡?那不就是妥妥的上进人士?”

    小才直接无视陈望的诡辩,“死心吧,这里面的鲤鱼是不可能给你吃的!”

    “谁、谁想吃了?看鱼有助于缓解视力疲劳,我现在每天一大半时间对着电脑,放松放松眼睛怎么了?你少污蔑我!”

    陈望一边说着一边进了院子。

    “陈组长。”冯裕庆早上刷完一套题正此时正好在院子里活动活动,看见陈望进来招呼了一声。

    陈望冯裕庆满脸的笑容问他大清早啥事那么高兴。

    “因为我早上做的那套题只错了一道题!”冯裕庆声音里都是压不住的高兴和得意。

    这可是他来实验室开始学习以来第一次有这么高的正确率!

    “哦?是嘛,正好三天后考核,这么高的正确率看来你一定能通过了。”陈望说完就进了办公室。

    而听了这话的冯裕庆脸上的笑容没了,人也傻了。

    陈望进了办公室就把考核的事告诉了刘俊芳。

    虽然有些突然,但刘俊芳对此没有任何意见,今天已经八月十二号暑假都已经过半,再不考核暑假都过完了,哪里还有时间进实验室搞研究。

    “好,我现在就开始准备。”

    陈望点点头就把这事抛到了脑后,反正到时候他只需要出题就行,其他的有刘俊芳。

    “陈组长,这会去实验室吗?”

    “对,今天的研究比较重要,中午饭你直接帮我送到实验室吧,我就不去食堂吃了。”

    “好。”

    陈望穿上实验服就去了实验室。

    这一段时间他一直在研发投影式光刻机的镜头,这是研发投影式光刻机的五大难点之一。

    陈望之前在江宁省实验厂研发的78型光刻机是接近式光刻机,别看接近式光刻机下一代就是投影式光刻机。

    但投影式光刻机对于接近式光刻机来说可不仅仅是技术更新了一代而已,而是已经发生了本质的变化。

    最开始的接触式光刻机是掩膜直接压在晶圆上,这种十分容易刮片,分辨率也低,之前华国大部分半导体工厂就使用的这种光刻机,良率也低。

    而接近式光刻机顾名思义,那就是掩膜和晶圆不接触,留一点点小缝隙。

    它比接触式好一点,但是分辨率还是差,良率也不高。

    可是当时陈望着急制造伺服电机和打字计算机的芯片,所以只能先研发接近式光刻。

    而在光刻机的发展历史上接近式光刻机也只有一个过渡的作用,因为它在被研发出来后,很快就被投影式光刻机取代了。

    此时国外市场最炙手可热的就是投影式光刻机。

    投影式光刻机就是完全不接触,直接用精密镜头把图案缩小,投射到晶圆上。

    这种不仅完全不刮片、不脏片,而且分辨率极高。

    接近式光刻机分辨率的极限是3-5微米,当初陈望伺服电机和打字计算机的芯片就是擦着接近式光刻机的极限制造出来的。

    但是投影式光刻机的起步点就是1-2微米,然后通过不断升级,分辨率的单位就能从微米变成纳米。

    这些都是后话了,此时陈望首要的是要把微米级别的投影式光刻机研发出来。

    因为本质不同,所以想要研发出投影式光刻机有几大难点需要攻克。

    比如高精度缩小投影镜头,亚微米级对准系统,高精度工作台,更强更稳定的光源与照明,还有掩膜、环境、工艺的全部升级。

    对于陈望来说,其中最难的就是高精度缩小投影镜头,因为这东西的材料国内现在根本烧不出来。

    而其他几个难点在他研发接近式光刻机的时候或多或少都改进了行业的生产工艺,研发了相关的仪器设备,现在还有加工精度能达到亚微米级别的机床,所以工作台、导轨、结构件这些卡脖子的机械部分都不算大问题。

    所以现在最大的难点就是光学玻璃材料。

    但是陈望已经搞出来了!

    他今天就是去测试成品的,如果成功就没有难点了,嘿嘿嘿!

    陈望研制的是硼冕玻璃,国内叫QB21,不过国内只能生产出工业用的普通玻璃。

    而陈望需要的是光刻级别,高透、零气泡、零条纹、超低应力、超高均匀性,只有这些都达到之后,才能用来做投影式光刻的镜头。

    而此时陈望就在对自己制造出来的特级QB21一步一步进行检查。

    第一步就是强光透射,看其没有气泡、结石、杂质、条纹······

    陈望先把灯箱通电预热,灯管发出刺眼的青白色强光,箱内风
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